負壓法二氧化氯發(fā)生器采用化學(xué)法現場(chǎng)制備二氧化氯并同時(shí)進(jìn)行投加的設備，外形結構為落地柜式。投加水射 器在柜式發(fā)生器內。T70G4000生成CLO2（二氧化氯）的反應物：NaCLO2（亞氯酸鈉）+ HCL（鹽酸）。T70GC4000生成CLO2的反應物：NaCLO2+HCL+NaCLO（次氯酸鈉）。 T70GT4000生成CLO2的反應物：NaCLO2+CL2（氯氣）。所產(chǎn)生CLO2的生成物含量在 95%以上。該系統為負壓投加系統（不同于采用計量泵的正壓投加系統）。因而**性及可靠 性更高。 壓力水流經(jīng)水射器生成負壓，吸入二氧化氯溶液與水射器投加水混合，投入工藝過(guò)程。流入 發(fā)生器的反應物，由浮子流量計測量流量。如果是手動(dòng)操作的發(fā)生器，反應物投加量和二氧化氯 發(fā)生量由流量計本身帶的手動(dòng)閥控制。反應物和用以?xún)?yōu)化反應的水被抽取進(jìn)入反應塔，從塔中流 出的二氧化氯溶液流過(guò)一個(gè)觀(guān)察鏡，可以通過(guò)顏色來(lái)估計產(chǎn)出量。如果系列為自動(dòng)控制，流過(guò)流 量計的反應物由一個(gè)三個(gè)閥座的CHLOROMATIC閥控制，這個(gè)閥的閥芯的形狀可以反映正確的 劑量比。閥的執行器可接受外部控制裝置的4~20mA控制信號，自動(dòng)調節二氧化氯的發(fā)生量。 負壓法二氧化氯發(fā)生器 特 點(diǎn) - 高產(chǎn)出率：CLO2產(chǎn)生率＞95%
- 運行費用低：使用商品濃度原料，無(wú)需稀釋
- 低維護費用：可動(dòng)部件少，負壓運行，部件過(guò)壓損壞率低
- 準確：原料進(jìn)入為流量計直接測量，精度高
- 運行**：負壓操作，無(wú)產(chǎn)生壓力的泵，無(wú)外泄之慮直接投加，不需存儲所產(chǎn)生的CLO2
- 高效自控：可實(shí)現多種自動(dòng)控制方式
負壓法二氧化氯發(fā)生器 技術(shù)參數 - 投加量：T70G4000 80g/h~10kg/h T70GT4000 15kg/h~30kg/h
T70GC4000 350g/h~9kg/h - 低發(fā)生量：T70G4000 80,150g/h NaCLO2 7.5%（80g/L，у=1.07）
HCL 8.5%（88g/L,у=1.04） - 消耗：CLO2（1g）←→NaCLO2（23.2mL）+HCL（23.2mL）
- 高發(fā)生量：300g~10kg/h~30kg/h NaCLO2 25%（306g/L,у=1.22）
HCL 32%（371g/L,у=1.16） NaCLO 14%（у=1.20） - 消耗：CLO2（1g）←→NaCLO2（6mL）+HCL（4.3mL）
CLO2（1g）←→NaCLO2（4.25mL）+HCL2（0.55gg） - 稀釋水壓力：≤150kpa穩定
- 控制輸入：4~20mA
- 化學(xué)品容器標高：容器底部min1.5m高度
- 水射器工作水壓：max.2.0MPa
- 發(fā)生器環(huán)境溫度：5~30℃，*佳20℃
- 自動(dòng)控制輸出信號：1.控制閥位4~20mA（1）
2.自動(dòng)手動(dòng)切換SPDT觸點(diǎn)（1） 3.低真空觸點(diǎn)SPDT觸點(diǎn)（1）（選擇項） 4.反應物缺乏報警SPDT觸點(diǎn)（2） - 調節范圍：建議50~100%投加量
- 控制方式：詳見(jiàn)下圖
- 外形尺寸：610（L）×1524（H）×650（W）mm
注：反應物中不能含有氫氟酸。從反應物容器至發(fā)生器管路上應安裝過(guò)濾器。 二氧化氯發(fā)生器投加系統控制方式 對控制系統配置選擇殘余量及復合環(huán)路控制需另配分析儀表和外部控制器，系統配置設計 請咨詢(xún)上海費波自控技術(shù)有限公司。   A.水流量穩定和被氧化物質(zhì)穩定的工藝過(guò)程 B.水流量變化和被氧化物質(zhì)穩定的工藝過(guò)程 手動(dòng)控制 流量比例控制  
C.水流量穩定和被氧化物質(zhì)不穩定的工藝過(guò)程 D.水流量變化和被氧化物質(zhì)不穩定的工藝過(guò)程 二氧化氯殘余量負反饋控制 二氧化氯殘余量和水流量復合環(huán)控制 | 